Im Rahmen der vorliegenden Masterarbeit ist es gelungen, per Plasmadiagnostiken Magnetronsputterprozesse mit variierter Anregung des Plasmas zu untersuchen. Dafür wurden besonders HiPIMS-Prozesse, also gepulste Magnetron-Plasmen mit hohen Peakleistungen, aber auch DC- und HF-Plasmen analysiert. Ziel dieser Messungen ist es, ein möglichst umfassendes Verständnis der Plasmabeschichtungsprozesse zu entwickeln, das deren Einsatz für komplexe Anwendungen und die Weiterentwicklung – auch in Bezug auf nachhaltigere Beschichtungsprozesse – erlaubt.